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用于铜基合金行业的热处理设备

用于铜带的HICON/H2®立式炉

光亮退火线,实现合金铜带和非合金铜带的优质、高效、高产

寥寥数语道出艾伯纳光亮退火技术的优势所在,也正是艾伯纳在欧亚地区获得成功的保证。

艾伯纳光亮退火线设计采用立式结构,目的在于在铜合金的光亮退火过程中充分利用全氢气氛,有效防止氧敏感的铜合金出现氧化现象。

HICON/H2®马弗炉设计及喷射通道设计成功实现最佳的材料机械性能,获得干净无瑕的平整的退火表面,以及带材表面极小的比表面张力。

艾伯纳技术可实现最小带厚为0.05毫米的带材的退火处理。

艾伯纳马弗炉设计特点:

  • 绝佳的气密性设计,保护气氛含氢量可达75 %,达到-60 °C的露点,获得无氧化物附着的光亮的退火表面
  • 铜带进入炉内前采用热水(不添加任何溶剂)进行脱脂处理
  • 由于上游密封辊采用氢气状态下垂吊式控制装置或整体弹跳辊,因此获得极低的带材张力
  • 加热段装有HICON/H2®喷射通道,带有可调节流量装置
  • 带材温度最高可达950 °C
  • 燃气和电量的耗量低

适用范围

  • 铜及铜合金
  • 磷青铜
  • 镍黄铜
  • 特殊合金

光亮退火线

青铜带材
立式光亮退火线
黄铜带材
炉子入口端配备活套
氢气退火设备
活套, 退火炉配备HICON/H2®喷射冷却器

用于铜基合金行业的热处理设备

用于铜带的HICON/H2®立式炉

光亮退火线,实现合金铜带和非合金铜带的优质、高效、高产

寥寥数语道出艾伯纳光亮退火技术的优势所在,也正是艾伯纳在欧亚地区获得成功的保证。

艾伯纳光亮退火线设计采用立式结构,目的在于在铜合金的光亮退火过程中充分利用全氢气氛,有效防止氧敏感的铜合金出现氧化现象。

HICON/H2®马弗炉设计及喷射通道设计成功实现最佳的材料机械性能,获得干净无瑕的平整的退火表面,以及带材表面极小的比表面张力。

艾伯纳技术可实现最小带厚为0.05毫米的带材的退火处理。

艾伯纳马弗炉设计特点:

  • 绝佳的气密性设计,保护气氛含氢量可达75 %,达到-60 °C的露点,获得无氧化物附着的光亮的退火表面
  • 铜带进入炉内前采用热水(不添加任何溶剂)进行脱脂处理
  • 由于上游密封辊采用氢气状态下垂吊式控制装置或整体弹跳辊,因此获得极低的带材张力
  • 加热段装有HICON/H2®喷射通道,带有可调节流量装置
  • 带材温度最高可达950 °C
  • 燃气和电量的耗量低

适用范围

  • 铜及铜合金
  • 磷青铜
  • 镍黄铜
  • 特殊合金

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立式光亮退火线
黄铜带材
炉子入口端配备活套
氢气退火设备
活套, 退火炉配备HICON/H2®喷射冷却器

版权艾伯纳所有 艾伯纳 - 奥地利商会会员单位


Industrieofenbau GmbH

被授予国徽使用权

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